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イオンビーム関連装置
イオンビーム関連装置
世界中の高性能な構成部品と自社の企画・設計技術を融合させ、
お客様仕様にカスタマイズ可能な独自のイオンビーム関連装置をご提供しています。
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KRI社イオンソース
Dr. Kaufman開発の米国KRI社製イオンソースをご提供。スパッタ、エッチング、クリーニング、イオンアシスト蒸着等に幅広く適応します。
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イオンビームエッチング／ミリング装置
DC/RFイオンソースを使用。基板回転冷却ステージ搭載のIBE/ミリング装置。コンパクト設計で拡張性の高いJ440シリーズをラインナップ。
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イオンビームスパッタ装置
RFイオンソースを使用し、高真空下でコンタミが少なく、高密度で精密な膜厚制御が可能な装置をご提供します。
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ガスクラスターイオンビーム発生源
数百の原子集団であるガスクラスターイオンビーム（GCIB）を生成し、ナノ加工、無損傷での超平坦化、反応性ガス処理を実現します。
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ガスクラスターイオンビーム（GCIB）応用装置
GCIBソースと当社の設計技術を融合。お客様の個別条件に合わせて設計・製造する応用装置としてご提供いたします。
カウフマン型イオン源、そしてハロルド・カウフマン博士
当社のイオンビーム関連装置の核となる技術は、カウフマン型イオン源であり、その分野で大きな影響力を持つのが、創設者のハロルド・カウフマン博士です。
ハロルド・カウフマン博士
カウフマン博士はNASA勤務時代の研究を基にカウフマン型ブロードイオン源を開発し、航空宇宙のみならず、広く、電気・電子の分野においてもイオンビームエッチング、イオンビームスパッタのイオン源として使用されるようになりました。
- 1971年コロラド州立大学で博士号を取得
- 1978年から退職までコロラド州立大学物理学部長を務める
- 1978年に大学を退職し、Kaufman & Robinson, Inc. を設立
カウフマン博士は2016年にNASAグレン研究センターの殿堂入りを果たしました。NASAはKRI®の創設者をイオン推進の先駆者として称え、「試験で実証されただけでなく、現在も宇宙で使用されている実験的な宇宙飛行用ハードウェアシステムを発明したという、稀有な功績を持つ人物」として紹介されています。
