ガスクラスターイオンビーム（GCIB）応用装置

GCIB応用装置とは

ガスクラスターイオンビーム（GCIB）ソースの特性を最大限に活かし、お客様のご要望に応じて設計・製造するカスタム応用装置です。非接触、ドライプロセス、低温、低ダメージのナノレベル平滑化処理を実現します。

本装置は、ガスクラスターイオンビーム（GCIB）を使用し、スキャンステージ上の基板表面平滑化エッチングを行います。従来の加工技術で困難だった以下の効果を実現します。

ガスクラスターイオンビーム装置設計時からお客様のご要望を可能な限り反映させ、お客様だけの特注の研究・量産設備に仕上げます。基板サイズ、試料重量、回転機構、入射角など、被対象物にあわせてステージを作製し、X-Y-Z調整が可能です。

ガスクラスターイオン生成室とビーム照射室が分かれているため、照射雰囲気は10⁻³Pa台の高真空に保たれます。これにより、コンタミ発生やプラズマダメージを対象物表面に与えることなく、高均一な加工が可能です。

対象物の加工条件によって、N₂, O₂, CO₂, SF₆, CF₄, CHF₃, B₂H₆などの反応性ガスでのクラスタービーム照射が可能です。また、基板表面温度100°C以下での加工を実現します。

クラスターイオンの多体衝突効果（例: 8keV/2000atoms@cluster=4eV）による低損傷加工を実現。吉川トレーディング特許の磁場電極により、クラスターイオン以外の単原子イオンなどを除去し、高純度ビームを生成します。

チャンバー内寸	約1200W x 990D x 900H
排気系	TMP 2台、到達真空度1e-4Pa以下（排気速度5e-4Pa迄3時間以上）
ステージ	5軸まで対応可能（X, Y, Z, θ, 自転）、8インチウェハ搭載、最大10kg
構成品例	GCIBソース（モノマーイオン除去・中和機能付き）、ファラデーカップ、基板シャッター