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ガスクラスターイオンビーム発生源
ガスクラスターイオンビーム発生源
装置概要
無損傷・超平坦化加工を実現するキーデバイス
数百～数千個の原子集団である GCIB を生成します。多体衝突による低損傷と、ラテラルスパッタ効果による基板表面の ナノレベル平滑化 を可能にする、高性能な発生源をご提供します。
GCIBの特長と役割
GCIBは、超低エネルギー照射効果(数eV/atom)とクラスターによる超高密度照射効果を併せ持つため、通常のイオンビームでは難しかった 超平坦化加工 や 無損傷加工 に最適です。ナノオーダーの微細加工、表面改質、高品位薄膜形成など、幅広い分野の技術課題を解決します。
- 超低エネルギー照射による無損傷加工
- ラテラルスパッタ効果による超平坦化(Ra数ナノメートル)
- 高品位薄膜形成、表面改質
装置の特長
無損傷とナノレベル平滑化を実現
クラスターイオンの多体衝突効果により低損傷加工を実現します（例: 8keV/2000atoms@cluster＝4eV)。また、ラテラルスパッタ効果により、ナノレベルの超平滑化処理が可能です。
高純度ビーム生成と吉川トレーディング特許技術
磁場電極により、クラスターイオン以外の単原子イオンなどを除去し、高純度なビームを生成します。この技術の一部は吉川トレーディングの特許です。
柔軟なプロセス対応とデモ環境
プロセスガスとしてAr,O₂, N₂, CO₂, SF₆など多様なガスに対応。ビーム口径は3cmです。導入検討のため、ナノレベル平坦化処理テスト用のデモ機もご用意しています。
GCIBソース
(モノマーイオン除去機能・中和機能付き)
GCIBソース
技術の詳細と原理
シングルイオンビームとの違い
照射・応用事例
ガスクラスターイオンビーム（GCIB）照射・応用事例
GCIB の優れた加工能力を、実際の応用事例を通じてご紹介します。
ダイヤモンドへのGCIB照射加工例
照射前
照射後
CVD ダイヤモンドの平滑化加工例
照射前と比較して、CVD ダイヤモンド表面の粗さを劇的に改善し、超平坦化 を実現した事例。
ご提供：京都大学名誉教授 山田公氏
タングステンカーバイド金型表面へのGCIB照射加工例
SF₆-GCIB照射による金型表面の エッチング加工事例。微細パターンの形成や表面改質の効果をご確認いただけます。
GCIB照射前
GCIB照射後
