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KRI社イオンソース

装置概要

Dr. Kaufman開発の米国KRI社製イオンソースを販売・取り付けいたします。クリーニング、スパッタ、エッチング等、幅広い用途に適応します。

当社のイオンビーム関連装置の核となる技術は、カウフマン型イオン源であり、その分野で大きな影響力を持つのが、創設者のハロルド・カウフマン博士です。

カウフマン博士はNASA勤務時代の研究を基にカウフマン型ブロードイオン源を開発し、航空宇宙のみならず、広く、電気・電子の分野においてもイオンビームエッチング、イオンビームスパッタのイオン源として使用されるようになりました。

カウフマン博士は2016年にNASAグレン研究センターの殿堂入りを果たしました。NASAはKRI®の創設者をイオン推進の先駆者として称え、「試験で実証されただけでなく、現在も宇宙で使用されている実験的な宇宙飛行用ハードウェアシステムを発明したという、稀有な功績を持つ人物」として紹介されています。

KRI社のイオンソースは、用途と要求されるプロセス環境に応じて選択できます。

用途	IADプロセス、プレクリーニング等の超高圧大電流イオンビームプロセスに最適。ダメージの少ないエッチング、クリーニング、イオンアシスト蒸着が可能。
特長	大電流アシスト効果により光学特性が向上。HCES使用で酸素ビームアシスト長時間照射が可能。水冷機構により低温成膜プロセスに対応し、既存装置へ後付け導入も容易。
導入分野	光学分野、レーザー端面、光通信用フィルター、量子デバイス。

用途	エッチング、スパッタリング、プレクリーニング用途に使用。高品質光学膜成膜や、磁性材料・金属膜などのエッチング（ミリング）に利用。
特長	イオンソース内にプラズマを封じ込めるため、低コンタミ、高動作真空度10-²Pa台を実現。プラズマ放電方式はDCまたはRFから選択可能。

グリッドタイプ RFイオンソース

モデル	RFICP40	RFICP100	RFICP140	RFICP220	RFICP380
ビーム電流 mA	>100	>350	>600	>800	>1,000
ビーム電圧 V	100～1200	100～1200	100～1200	100～1200	100～1200
ビーム出力径	4cmφ	10cmφ	14cmφ	20cmφ	38cmφ
長さ cm	12.7	23.5	24.6	30	39
外径 cm	13.5	19.1	24.6	41	59
取付フランジ	8″CF	10″CF	12″CF	12″CF	12″CF

グリッドタイプ DCイオンソース

モデル	KDC10	KDC40	KDC75	KDC100	KDC160
ビーム電流 mA	>10	>100	>250	>400	>650
ビーム電圧 V	100～1200	100～1200	100～1200	100～1200	100～1200
ビーム出力径	1cmφ	4cmφ	8cmφ	12cmφ	16cmφ
長さ cm	11.5	17.1	20.1	23.5	25.2
外径 cm	4	9	14	19.4	23.2
取付フランジ	2-3/4″CF	6″CF	8″ or 10″CF	10″ or 12″CF	12″CF

性能	・パルスDC用3000W電源・0～1000V、最大10A
特長	・100ns未満のアーク検出、1usの緩和時間・最大150Vまで調整可能な逆電圧・可変動作周波数・超低アークエネルギー

性能	・パルスDC用最大1500W電源・0～1000V、最大4A
特長	・200ns未満のアーク検出、1usの緩和時間・優れたアーク検出性能・超低アークエネルギー

イオンビームプロセスを補完するエレクトロンソース（電子銃）を提供しています。
この装置は、電子放出を目的としています。

性能・導入分野	・イオンエンジン開発・MPDスラスタ開発・各種イオンソースに取付
タイプ	・ホロカソードタイプ・フィラメント内蔵タイプ・RFタイプ

Product	SHC1000 (selective uses)	MHC1000	LHC1000	LFN2000
Type	Hollow cathode	Hollow cathode	Hollow cathode	Low AC Frequency
Plasma coupling	Yes	Yes	Yes	Yes
IE max	5A	10A	20A	1A
VB	< 50eV	< 50eV	< 50eV	< 50eV
Insert life*	100 to 500 hrs	200 to 800 hrs	200 to 1000 hrs	200 to 600 hrs
Typical flows (Ar)	5-10sccm	5-10sccm	5-20sccm	4-6sccm
Width	1.51”	2.3”	2.3”	2.3”
Length	2.85”	3.6”	4.6”	1.65”
Mounting	Internal remote	Internal remote	Internal remote	Internal remote
Installations	eH, RFICP, KDC, anode layer, cathodes, thrusters	eH, RFICP, KDC, anode layer, cathodes, thrusters	eH, RFICP, KDC, anode layer, cathodes, thrusters	RFICP, KDC, anode layer, cathodes
Process	Etch, Deposition, Space	Etch, Deposition, Space	Etch, Deposition, Space	Etch, Deposition